ການນໍາໃຊ້ທາດອາຍຜິດໃນອຸດສະຫະກໍາ semiconductor ວັນທີກັບຄືນສູ່ຕົ້ນປີ 1950 ເຖິງປີ 1960. ໃນລະຫວ່າງຂັ້ນຕອນການຜະລິດ semiconductor, ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນໃຊ້ໃນການເຮັດຄວາມສະອາດແລະປົກປ້ອງວັດສະດຸ semiconductor ເພື່ອຮັບປະກັນຄວາມບໍລິສຸດແລະຄຸນນະພາບຂອງພວກເຂົາ. ໃນບັນດາທາດອາຍຜິດທີ່ໃຊ້ກັນຫຼາຍທີ່ສຸດແມ່ນໄນໂຕຣເຈນແລະທາດ hydrogen.
ໃນຂະນະທີ່ເຕັກໂນໂລຊີ semiconductor ໄດ້ພັດທະນາແລະປຸງແຕ່ງຂະບວນການຜະລິດໄດ້ສືບຕໍ່ປັບປຸງ, ຄວາມຕ້ອງການຂອງອາຍແກັສເພີ່ມຂື້ນ. In 1970, further development of semiconductor manufacturing technology, the application of gases in key processes such as etching and deposition of thin films gradually increased, and fluoride gases (eg SF6) and oxygen became commonly used etching and deposition gases. ປີ 1980 ເຫັນວ່າມີຄວາມຕ້ອງການກ່ຽວກັບຄວາມຕ້ອງການຂອງຄວາມຕ້ອງການເພີ່ມເຕີມໃນການພັດທະນາວົງຈອນປະສົມປະສານແລະການເພີ່ມຂື້ນຂອງຄວາມຕ້ອງການ. hydrogen ໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຂະບວນການຜະລິດ, ລວມທັງການຝາກຢາ hydrogen annealing ແລະ hydrogen vapor. And from 1990 to the present, the demand for high-purity gases and specific gases has increased as semiconductor device sizes have continued to shrink and new processes have been introduced. For example, the application of extreme ultraviolet lithography (EUV) requires the use of extremely high-purity gases such as nitrogen and hydrogen.
semiconductor Geson ສືບຕໍ່ເພີ່ມຂື້ນກັບການພັດທະນາຂອງຜະລິດຕະພັນທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ, ສະນັ້ນຜະລິດຕະພັນທີ່ໃຊ້ອາຍແກັສ, ເຄື່ອງກວດກາອາຍແກັສ, ເຄື່ອງກວດຈັບອາຍແກັສ, ແລະບົດບາດຂອງພວກມັນແມ່ນມີດັ່ງນີ້:
ອຸປະກອນຄວາມກົດດັນ: ຜູ້ຄວບຄຸມຄວາມກົດດັນແມ່ນອຸປະກອນທີ່ໃຊ້ໃນການຄວບຄຸມຄວາມກົດດັນຂອງອາຍແກັສ. ພວກມັນມັກຈະປະກອບດ້ວຍວາວຄວບຄຸມແລະເຊັນເຊີຄວາມດັນ. Pressure regulators take a high pressure gas input and stabilise the pressure of the output gas by adjusting the valve to meet specific application requirements. Pressure regulators are widely used in areas such as industry, manufacturing and laboratories, as well as in the semiconductor industry, among others, to ensure the stability and safety of the gas supply.
ປ່ຽງກ gas າຊ: ວາວຊ້ອນທ້າຍທີ່ໃຊ້ໃນການຄວບຄຸມກະແສຂອງທາດອາຍແລະປິດຂໍ້ຄວາມກ gas າຊ. ພວກມັນມັກຈະມີຫນ້າທີ່ຢູ່ໃນ / ນອກຫນ້າທີ່ທີ່ເປີດຫຼືປິດກະແສແກັດ. ມີປ່ຽງກ gas າຊປະເພດຕ່າງໆ, ລວມທັງປ່ຽງຄູ່ມື, ປ່ຽງໄຟຟ້າແລະປ່ຽງ pneumatic. ພວກມັນຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນລະບົບອາຍແກັສເພື່ອຄວບຄຸມການໄຫຼ, ຄວາມກົດດັນແລະອັດຕາການໄຫຼຂອງທາດອາຍຜິດ.
ເຄື່ອງວັດຄວາມກົດດັນຂອງອາຍແກັສ: ເຄື່ອງວັດຄວາມກົດດັນຂອງອາຍແກັສແມ່ນໃຊ້ເພື່ອວັດແທກລະດັບຄວາມກົດດັນຂອງອາຍແກັສ. ໂດຍທົ່ວໄປພວກມັນຖືກຕິດຕັ້ງຢູ່ສະຖານທີ່ທີ່ສໍາຄັນໃນລະບົບອາຍແກັສເພື່ອຕິດຕາມການປ່ຽນແປງຄວາມກົດດັນແລະຮັບປະກັນວ່າມັນຢູ່ໃນຂອບເຂດທີ່ປອດໄພ. ວັດແທກຄວາມກົດດັນຂອງອາຍແກັສແມ່ນຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອຸດສະຫະກໍາ, ການຜະລິດແລະຫ້ອງທົດລອງ, ແລະອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ກໍ່ໄດ້ມີສ່ວນຮ່ວມ.
ເຄື່ອງກວດເສື້ອກ gas າຊ: ເຄື່ອງກວດຈັບນ້ໍາມັນອາຍແກັດຖືກໃຊ້ເພື່ອກວດກາການຮົ່ວໄຫຼໃນລະບົບອາຍແກັສ. ພວກເຂົາກວດພົບການມີການຮົ່ວໄຫຼຂອງແກ gas ສແລະສຽງເຕືອນເພື່ອໃຫ້ການກະທໍາທີ່ທັນເວລາສາມາດຖືກປະຕິບັດເພື່ອປ້ອງກັນອຸປະຕິເຫດການຮົ່ວໄຫຼ. ເຄື່ອງກວດຈັບຂອງອາຍແກັສໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອຸດສາຫະກໍາ, ການນໍາໃຊ້ສານເຄມີ, ນ້ໍາມັນແລະອາຍແກັສແລະອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ກໍ່ໄດ້ມີສ່ວນຮ່ວມ.
ເວລາໄປສະນີ: Feb-20-2024